納恩科技總部位于深圳市南山區(qū)，在香港設有研發(fā)分公司，公司專注于等離子材料表面處理和真空鍍膜技術研發(fā)，目前主要產(chǎn)品包括真空等離子磁控濺射鍍膜設備，離子濺射儀，等離子刻蝕設備，等離子表面處理設備，輝光放電儀等。 公司核心研發(fā)團隊來源于香港大學等離子實驗室，香港理工大學材料工程學院和美國佐治亞理工學院的微電子學院。團隊成員有5年在硅谷開發(fā)半導體設備的經(jīng)驗，我們意識到許多現(xiàn)有的半導體等離子處理系統(tǒng)仍在使用十幾年前的技術，并且價格昂貴。因此，我們決定將針對半導體行業(yè)和核研究開發(fā)的的等離子技術引入經(jīng)濟實惠的等離子設備中。 自成立以來，納恩科技圍繞等離子處理系統(tǒng)所需核心電源及底層算法進行技術布局，不斷拓展自主設計能力。目前已完成以MCU，ARM為核心的射頻芯片開發(fā)平臺，實現(xiàn)了芯片的結(jié)構(gòu)化和模塊化開發(fā)。 具有模擬、網(wǎng)絡阻抗匹配、功率驅(qū)動、功率器件、射頻和底層核心算法的設計能力，可針對不同細分領域等離子處理系統(tǒng)需求，做出底層硬件組合，提高等離子系統(tǒng)的穩(wěn)定性和效率。 納恩科技成立至今已為清華大學、香港大學、華為2012實驗室、北京大學、中國科學院、南方科技大學、美國康奈爾大學、賓夕法尼亞大學、等中外眾多企業(yè)、大學研究機構(gòu)提供過等離子處理設備和解決方案，并專注于發(fā)展面向未來新材料市場的應用技術，助力客戶開發(fā)出激動人心的新工藝!